半导体制造的气体测量解决方案
在关键环境中确保纯度、可靠性和工艺完整性
半导体制造要求对气体纯度和工艺条件进行最严格的控制。 即使是微量的氧、水分或杂质也会影响晶圆成品率、设备性能和整体生产效率。 可靠的气体测量解决方案对于保障工艺完整性、最大限度地降低污染风险以及支持稳定的高质量输出至关重要。
行业挑战：保持超高纯度
半导体工艺依赖于一系列特种气体和化学品，即使是极微量污染物也会导致缺陷、降低良率并增加运营成本。
挑战包括：
- 氧气侵入超高纯度（UHP）气体，导致氧化和缺陷。
- 水分污染会影响蚀刻、沉积和光刻工序。
- 微量杂质（碳氢化合物、硫化合物、氨）影响晶圆均匀性。
- 液位波动可能导致化学品处理系统过量填充、干运行或交叉污染。
为应对这些挑战，半导体制造商需要具备 ppt/ppb 级监测灵敏度、快速响应、稳定性，并且易于集成到复杂系统中。
解决方案：先进的气体和液体监测产品组合
Analytical Industries微量氧测量解决方案
AII PI2-MSppb级超微量氧分析仪可提供可靠、稳定且经济高效的氧测量，测量水平可低至ppb级。 PI2-MS 响应快速，采用长寿命可更换传感器，校准简便，适用于气体纯度验证、设备监测、手套箱和晶圆加工等场景。产品提供台式、壁挂式和便携式配置，可根据现场条件灵活部署。
AII GPR-1200 便携式微量氧分析仪兼具高精度（低至 ~50 ppb）和便携性，适用于高纯气体抽查和管道验证。 产品配备四通旁路/取样阀，有助于实现快速响应和延长传感器寿命，同时支持数据记录，并提供危险区域认证配置。
AII GPR-1500GB&GPR-2500GB ppm级微量氧与百分比级氧变送器
AII GPR-1500GB & GPR-2500GB ppm级微量氧与百分比级氧变送器专为手套箱、氮气发生器等关键环境设计，可提供从环境空气（~21% O₂）到低ppm水平的精确样测量，量程覆盖0–10 ppm至0–25% O₂。该产品适合用于半导体和 UHP 气体应用，可帮助维持超洁净受控气氛。 具备本安型认证（IIC 等级）的型号可在危险环境，甚至富氢气体系统中安全部署。
XEC430 高精度氧分析仪 – 即将推出
XEC430 提供从低 ppm 水平到 100% O₂ 的精确氧测量，适用于半导体及其他高科技工业工艺中的气体纯度监测。 该产品基于 Analytical Industries 的高性能原电池式氧传感器，采用标准化机箱、HMI 和菜单结构，兼顾测量精度与易用性。操作人员只需熟悉一个操作界面，即可应对多个应用场景。 XEC430 提供台式、19 英寸机架式、面板式和壁挂式安装选项，适用于各类对精确氧气监测要求严格的场景，可提供可靠性能并简化操作流程。
这些传感器专为 OEM 集成和关键工艺测量点而设计，可提供从 ppm 到百分比级别的精确氧测量，响应快速、性能稳定。 产品提供法兰安装型、板载式和螺纹式等选项，适用于级微量氧侵入也可能影响良率的工艺保护场景。
Michell Pura可提供快速、准确的微量水分测量，测量可低至–120 °C 露点（≈1 ppbV）。 产品结构紧凑坚固，采用 VCR过程 连接，便于集成到 UHP 气体管线中。 模拟/数字输出和服务交换计划便于维护，有助于工艺连续运行和稳定性。
LDetek MultiDetek3 是一款用于 UHP 气体中 ppt/ppb 级杂质分析的双 GC 系统。 该系统可监测稀有气体、碳氢化合物、硫化合物和氨，并可选配集成式氧和水分模块，用于多参数测量。 凭借灵活的检测器选项、大尺寸触摸屏界面和远程管理软件，可兼顾高精度与操作效率。
SST Sensing 液位开关采用固态光学技术，可在广泛的应用中准确检测液体是否存在，且无需维护。 这些开关采用紧凑型设计，适用于狭窄空间，坚固工业外壳适用于苛刻环境，本安型型号适用于危险区域。该系列响应迅速，不受泡沫和气泡影响，长期耐用，并提供多种外壳材料和安装方式。
应用与行业
我们的解决方案专为半导体制造和相关的 UHP 气体行业设计，应用包括：
- UHP 气体和特种气体的生成和分配
- 晶圆加工、蚀刻和沉积
- 手套箱和受控环境
- 设备监测和吹扫气体验证
- 化学品输送和废水系统
- 需要超纯气体的航空航天、特种金属加工和研发
结论
半导体制造需要对气体和液体质量进行严格控制。 我们的分析仪、变送器、传感器、开关和监测解决方案组合，可在最苛刻的环境中确保测量精度、可靠性和工艺完整性。 通过将先进技术与易于集成、易于维护的设计相结合，我们帮助制造商实提升良率，提高效率，并降低污染风险。
请联系我们了解我们的气体和液体测量解决方案如何优化您的半导体工艺。
